双层铝互连倒梯形通孔刻蚀技术研究

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针对双层布线中二铝在通孔处台阶覆盖率低的问题,通过优化光刻胶膜的厚度、硬烘温度,以及调整刻蚀气体流量、腔室压力及极板功率,开发出坡度为62.5°的倒梯形通孔;二铝在通孔处的台阶覆盖率大于90%。将该技术用于D/A转换器的研制,成品率得到明显提高。 Aiming at the problem of low coverage rate of double-aluminum in through-hole in double-layer wiring, the gradient of photoresist film thickness and hard-baking temperature, as well as the adjustment of etching gas flow rate, chamber pressure and plate power, 62.5 ° inverted trapezoidal through-hole; two aluminum in the through-hole step coverage greater than 90%. The technology used in the D / A converter development, yield has been significantly improved.
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