锐钛矿型二氧化钛薄膜制备及其光催化性能研究

来源 :真空与低温 | 被引量 : 0次 | 上传用户：tronsung123

【摘要】

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在室温下采用直流磁控反应溅射法制备纳米TiO2薄膜,用XRD、XPS等手段对未退火及不同退火温度处理的薄膜进行了研究,以紫外灯为光源对亚甲基兰进行了光催化降解试验.结果表明:

【作者】

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赵琳邱家稳何延春王洁冰许旻赵印中

【机构】

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兰州物理研究所

【出处】

：

真空与低温

【发表日期】

：

2005年2期

【关键词】

：

磁控溅射 TIO2 薄膜退火光催化 maganetron sputteringTiO_2 thin filmsannealphotocatalysis ac

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在室温下采用直流磁控反应溅射法制备纳米TiO2薄膜,用XRD、XPS等手段对未退火及不同退火温度处理的薄膜进行了研究,以紫外灯为光源对亚甲基兰进行了光催化降解试验.结果表明:室温制备未退火的薄膜为非晶结构,400～500℃退火的薄膜为锐钛矿相结构.制备的锐钛矿型TiO2薄膜具有一定的光催化性能,在500℃退火2 h且厚度较大的薄膜光催化性能较好.

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