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依据化学合成原理，采用原位一体工艺，合成聚酰胺酸（PAA），通过正硅酸乙酯的改性，制成聚酰亚胺复合材料；采用SME、紫外可见光谱、傅立叶红外变换表征性能。结果表明，无机小分子在聚酰亚胺（PI）基体中分散情况均匀、良好，材料对紫外光有优越的吸收性能，并具有低的介电常数。
正硅酸乙酯对聚酰亚胺性能影响
【摘 要】
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依据化学合成原理，采用原位一体工艺，合成聚酰胺酸（PAA），通过正硅酸乙酯的改性，制成聚酰亚胺复合材料；采用SME、紫外可见光谱、傅立叶红外变换表征性能。结果表明，无机小分子在聚酰亚
【机 构】
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陕西理工学院
【出 处】
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合成技术及应用
【发表日期】
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2008年4期
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