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用射频溅射法在Ａｒ＋Ｎ２混和气氛中制备了Ｆｅ９０Ｔａ１０－Ｎ膜，发现Ｔａ的添加改善了磁性能的热稳定性，而且对Ｆｅ４Ｎ相的生成有明显的抑制作用，另一方面，Ｔａ的加入在Ｆｅ晶格中造成了较大的晶格膨胀，使α－Ｆｅ（１１０）面内和总各向异性能变得很大，以致于不能获得很低的矫顽力。
微晶FeTaN薄膜的结构及磁性研究
【摘 要】
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用射频溅射法在Ａｒ＋Ｎ２混和气氛中制备了Ｆｅ９０Ｔａ１０－Ｎ膜，发现Ｔａ的添加改善了磁性能的热稳定性，而且对Ｆｅ４Ｎ相的生成有明显的抑制作用，另一方面，Ｔａ的加入在Ｆｅ晶格中造成了较大的晶格膨胀，使α－Ｆｅ（１１０）面内和总各向异性能变
【机 构】
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兰州大学物理系,730000
【出 处】
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磁性材料及器件
【发表日期】
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1997年1期
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