专利名称:钼靶材的制作方法

来源 :中国钼业 | 被引量 : 0次 | 上传用户:whuagnqn
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专利申请号:CN201210260409.8 公开号:CN103567445A 申请日:2012.07.25 公开日:2014.02.12 申请人:宁波江丰电子材料有限公司 一种钼靶材的制作方法,包括:提供钼粉末;采用静压工艺将钼粉末进行第一次致密化处理,形成第一钼靶材坯料;将第一钼靶材坯料放入包套并抽真空;采用冷等静压工艺将包套内的第一钼靶材坯料进行第二次致密化处理,形成第二钼靶材坯料;第二次致密化处理后,去除包套,采用感应烧结工艺将第二钼靶材坯料进行第三次致密化处理,形成第三钼靶材坯料;第三次致密化处
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