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RF磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。由于陶瓷溅射的现象相当复杂，目前尚无完整的溅射理论可以用来分析溅射现象，所以通常通过实验来确定溅射过程中的影响因素。综述了RF磁控溅射陶瓷薄膜过程中的影响因素，阐述了微波介质陶瓷薄膜的应用前景，并指出了今后的发展方向。
RF磁控溅射微波介质陶瓷薄膜的影响因素及其应用
【摘 要】
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RF磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。由于陶瓷溅射的现象相当复杂，目前尚无完整的溅射理论可以用来分析溅射现象，所以通常通过实验来确定溅射过程中的影响因素。综
【机 构】
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山东师范大学物理与电子学院,山东大学晶体材料国家重点实验室
【出 处】
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科学技术与工程
【发表日期】
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2008年7期
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