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在HNO3-HCl-HF混酸中高压密闭消解,采用钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中的硅量。研究了酸体系、消解时间及共存离子对硅测定的影响。方法用于已知样品的测定,相对标准偏差小于3%（n=11）,加标回收率为98.9%-101%。方法精密度高、准确度好,能够满足钴铬烤瓷合金中硅含量测定的要求。
高压密闭消解-钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中硅
【摘 要】
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在HNO3-HCl-HF混酸中高压密闭消解,采用钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中的硅量。研究了酸体系、消解时间及共存离子对硅测定的影响。方法用于已知样品的测定,相对标准偏差
【机 构】
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广东省工业分析检测中心
【出 处】
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中国无机分析化学
【发表日期】
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2017年4期
【基金项目】
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广东省科学院科研平台建设专项(2016GDASPT-0316,2016GDASPT-0201);广东省科技厅项目(粤科规财字[2014]208号)资助
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