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采用常压MOCVD法，以二乙基锌和去离子水为源，在不同厚度的ZnO缓冲层上生长了一组ZnO薄膜。分别采用X射线衍射（XRD）、干涉显微镜和光致发光谱（PL）对样品的结晶性能、表面形貌和发光性能进行分析，结果表明，随着缓冲层的引入，ZnO外延膜的质量得到很大提高，缓冲层的厚度对外延ZnO薄膜的质量有很大的影响，当缓冲层厚度为60nm时，ZnO薄膜的结晶性能最好，表现出高度的择优取向，（002）面的ω摇摆曲线半峰全宽仅为1．72°，其表面平整，表现出二维生长的趋势，室温光致发光谱中只有与自由激子复合