【摘 要】
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通过对于GaAs表面形貌在特定As BEP（1.33μPa）、不同温度（570,560,550,540和530℃）下相变过程研究,发现随着温度的降低GaAs预粗糙化过程发生了不同程度的迟滞,在温度降至530℃附
【机 构】
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贵州财经大学教育管理学院,贵州大学电子信息学院,贵州师范大学物理与电子科学学院
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通过对于GaAs表面形貌在特定As BEP（1.33μPa）、不同温度（570,560,550,540和530℃）下相变过程研究,发现随着温度的降低GaAs预粗糙化过程发生了不同程度的迟滞,在温度降至530℃附近时,延迟现象尤其明显,并且当温度远低于530℃时（As BEP 1.33μPa）GaAs表面将不会发生预粗糙转变。采用二维艾辛模型建立方程结合实验数据对这一现象进行理论解释,理论计算出GaAs预粗糙化相变的临界转变温度为529℃,与实验中获得的数据吻合。采用理论上获得的临界转变温度,利用临界减慢理
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