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Teron 600系列光罩缺陷检测系统加入了可编程扫描机曝光功能，并且强大的灵敏度和模拟光刻计算功能为2Xnm逻辑（3Xnm半节距内存）节点下的光罩设计带来了一次重大转型。该系统已成功的检测了为ILT／SMO、两次图形光刻和EUV（光罩和空片）创建的原型光罩。系统设计考虑了延伸至1Xnm工艺的光学解决方案。