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Nafion干燥器的去溶机理和日常维护
Nafion干燥器的去溶机理和日常维护
来源 :分析仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wekey
【摘 要】
:
介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗.与其他常用去溶系统或干燥器相比较,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的
【作 者】
:
汪淑华
郇延富
冯国栋
曹彦波
金钦汉
【机 构】
:
吉林大学化学院
【出 处】
:
分析仪器
【发表日期】
:
2003年1期
【关键词】
:
去溶机理
维护
Nafion干燥器
膜去溶
去溶系统
等离子体
原子光谱分析
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介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗.与其他常用去溶系统或干燥器相比较,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力,日常维护和清洗简单.该系统不存在记忆效应和峰展宽问题,可大大改善原子光谱分析系统的性能.
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