电子束退火法制备Li-N共掺杂多晶ZnO薄膜

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：suixin1102

【摘要】

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为研究电子束退火对Li-N共掺杂ZnO薄膜性能的影响，首先利用溶胶-凝胶旋涂法在p型Si(111)衬底上制备Li-N共掺杂的ZnO前驱膜，然后用电子束对前驱膜进行退火。退火时，电子束加速电

【作者】

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李艳丽李辉孔祥东韩立李晓娜

【机构】

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中国科学院电工研究所电子束曝光技术研究组,中国科学院大学,中国科学院电工研究所太阳能电池技术研究部

【出处】

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发光学报

【发表日期】

：

2018年3期

【关键词】

：

电子束退火掺杂多晶 ZNO薄膜 electron beam annealing doping polycrystalline ZnO thin film

【基金项目】

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国家自然科学基金(51472239，51307162)资助项目

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为研究电子束退火对Li-N共掺杂ZnO薄膜性能的影响，首先利用溶胶-凝胶旋涂法在p型Si(111)衬底上制备Li-N共掺杂的ZnO前驱膜，然后用电子束对前驱膜进行退火。退火时，电子束加速电压10 kV，退火时间5 min，聚焦束流123 mA，束流为0.7～1.9 mA，最后得到Li-N共掺杂的ZnO薄膜。XRD谱分析表明，当束流高于1.5 mA之后，薄膜为六方ZnO和立方ZnO的混合多晶薄膜，且有金属Zn生成，导致薄膜有较强的绿光发射。SEM图片分析显示，薄膜的晶粒尺寸随束流增加而增大，当束流高于1.5

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