磁流变斜轴抛光及其路径控制

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为解决磁流变抛光较小曲率半径(φ8mm以下)非球面光学零件困难和抛光效率不高等问题。以四轴超精密机床为平台,开发出一种基于磁场辅助的磁流变斜轴抛光工艺,采用微小磁性工具头斜轴抛光方式,通过x轴、y轴、z轴、丑轴四轴联动。控制抛光路径。防止干涉,实现微小非球面的超精密抛光。并对微小磁性斜轴抛光工具头的抛光路径轨迹进行了分析计算,采用驻留时间修正方法对误差进行修正,在此基础上开发出适用于微小非球面斜轴抛光的数控加工与修正软件。
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