磁控共溅射制备氮化钛铝薄膜及其机械性能的研究

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：tianshanfeiren

【摘要】

：

使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列A1含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜.在溅射过程,薄膜沉积速率和Al含量随Al的溅射功率增加而增大,而薄膜的粗糙

【作者】

：

倪晟孙卓赵强

【机构】

：

华东师范大学

【出处】

：

功能材料

【发表日期】

：

2005年12期

【关键词】

：

TIALN薄膜磁控共溅射纳米压痕仪机械性能 titanium aluminum nitride reactive magnetron co-sputte

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使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列A1含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜.在溅射过程,薄膜沉积速率和Al含量随Al的溅射功率增加而增大,而薄膜的粗糙度减小.Al含量较低时(约21%),TiAlN薄膜的硬度和弹性模量都高于TiN薄膜.而Al含量较高时(＞26%),薄膜的硬度和弹性模量也随含量增加减小.

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