论文部分内容阅读
利用热力学数据计算并绘制了NiPH2O系电位—pH图,根据电位—pH图分析了电沉积NiMo和NiMoP合金镀层的电化学行为;利用X射线衍射测试了NiMo和NiMoP镀层在镀态下的物相组成。热力学分析表明:Mo和P都难以单金属的形式沉积,它们必须和其它金属以诱导共沉积的方式才能沉积出来;P,Ni能以金属间化合物Ni3P的形式在阴极上沉积;Mo以两种形式进入阴极,一种为以MoO3固体颗粒复合电镀进入镀层,另一种为以金属间化合物的形态沉积。X射线衍射分析表明,P以Ni3P,Mo以MoO3与MoC的形式存在于镀层中,这一结果与热力学分析结论相一致。