不同衬底上低温生长的ZnO晶体薄膜的结构及光学性质比较

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaodehuwei12

【摘要】

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采用电子束反应蒸发方法，在单晶Si(001)及玻璃衬底上低温外延生长了沿c轴高度取向的单晶ZnO薄膜,并对沉积的ZnO晶体薄膜的结构和光学性质进行了分析比较。通过对ZnO薄膜的X射

【作者】

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邱东江吴惠桢金进生徐晓玲

【机构】

：

浙江大学物理系

【出处】

：

真空科学与技术

【发表日期】

：

2001年1期

【关键词】

：

电子束反应蒸发结构光学特性氧化锌晶体薄膜低温生长 Epitaxial growthFilm growthLight absorptionSubstrat

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采用电子束反应蒸发方法，在单晶Si(001)及玻璃衬底上低温外延生长了沿c轴高度取向的单晶ZnO薄膜,并对沉积的ZnO晶体薄膜的结构和光学性质进行了分析比较。通过对ZnO薄膜的X射线衍射(XRD)分析及光致荧光激发谱(PLE)测量，研究了衬底材料结构特性、生长温度及反应气氛中充O2对ZnO薄膜的晶体结构和晶体光学吸收特性的影响。结果表明：①衬底温度对沉积的ZnO薄膜的晶体结构影响显著，玻璃衬底上生长ZnO薄膜的最佳温度比Si(001)衬底上生长的最佳温度要高70 ℃；②虽在最佳生长条件下获得的ZnO薄膜的

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