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用喇曼散射方法观察了HClO4、HNO3、H2SO4—石墨层间化合物（GIC）的阶次状态随时间的变化,采用a面及c面入射观察。到HClO4—GIC的阶次变化过程中ClO4-的溢出现象,据此认为层间化合物的阶次不稳定是由于插入的离子与石墨层间的分子力作用较弱。
石墨层间化合物稳定性的研究
【摘 要】
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用喇曼散射方法观察了HClO4、HNO3、H2SO4—石墨层间化合物（GIC）的阶次状态随时间的变化,采用a面及c面入射观察。到HClO4—GIC的阶次变化过程中ClO4-的溢出现象,据此认为层间化
【机 构】
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南开大学,南开大学
【出 处】
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炭素
【发表日期】
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1991年1期
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