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以SnCl2·2H2O为原料，采用压缩喷雾热分解的方法在玻璃衬底和石英片衬底上制得氧化锡薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）和扫描电镜（SEM）分别对薄膜的内部结构和表面形貌进行了表征。研究表明，500℃下制备的薄膜比较致密平整；320℃下，喷雾50min制得的薄膜的X射线衍射峰强度较强；相同喷雾时间下，当温度达到380℃时，X射线衍射峰的强度大幅度提高。