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从更深层次——电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因。对工件温升、临界磁场、脱缚电子的能量及原因、刻蚀跑道断面形状的成因等作了分析
磁控溅射原理的深入探讨
【摘 要】
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从更深层次——电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因。对工件温升、临界磁场、脱缚电子的能量及
【机 构】
：
核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院 四川成都610041,四川成都610041
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2004年04期
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