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先进的光刻胶干法去除系统可以减少fab风险为65nm和45nm节点技术、可靠性和生产力建立新基准。
诺发公司（NOVELLUS）公司推出GAMMA EXPRESS
【摘 要】
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先进的光刻胶干法去除系统可以减少fab风险为65nm和45nm节点技术、可靠性和生产力建立新基准。
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2006年8期
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