软盘介质采用蒸镀锗和钴铬工艺

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日本日立公司采用基膜上蒸镀厚30毫微米锗层,然后再蒸镀0.2~0.3微米的钴铬层技术。与直接在薄膜上涂钴铬层相比,钴铬晶体方向性更为优良。从垂直磁记录软盘的记录密度特性看,D_(50)有大幅度提高。在磁盘上采用溅射工艺,在高导磁率钴锆钼非晶态合金液上, Hitachi, Japan, using a base film deposited on the thickness of 30 nm thick germanium layer, and then deposited 0.2-0.3 micron cobalt chromium layer technology. Compared with direct coating of cobalt-chromium layer on the film, cobalt-chrome crystal orientation is more excellent. From the perpendicular magnetic recording floppy disk recording density characteristics, D_ (50) has greatly increased. On the disk using the sputtering process, high permeability cobalt-zirconium molybdenum amorphous alloy liquid,
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