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用一种新的化学溶液沉积方法在双轴织构NiW（200）合金基底上制备了涂层导体用稀土氧化物RE203（RE=Y,Sm，Eu，Dy,Yb）缓冲层。分别利用X射线衍射，扫描电子显微镜，原子力显微镜对制得的RE2O3缓冲层的相结构、织构、表面形貌和平整度进行了检测。结果表明，RE2O3缓冲层具有较好的双轴织构，表面平整无裂纹。