【摘 要】
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采用反应磁控溅射方法在ITO玻璃基片上制备WO3薄膜,并在不同温度下进行退火处理.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光分光光度计、电化学测试系统分析薄膜的
【机 构】
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暨南大学物理学系,广东,广州,510632
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采用反应磁控溅射方法在ITO玻璃基片上制备WO3薄膜,并在不同温度下进行退火处理.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光分光光度计、电化学测试系统分析薄膜的微观结构及其Li+致色性能.结果表明,室温条件下沉积的原始态薄膜,及退火温度200℃以下内的薄膜,基本保持着非晶结构,具有良好的Li+致色性能,薄膜的透光调控能力达到61.42%;随着退火温度的升高,薄膜开始晶化,Li+致色性能急剧下降.
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