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杂散光是光栅的重要技术指标，它直接影响光栅的信噪比，紫外波段的杂散光对光谱分析尤为不利。为了考察平面刻划光栅用于光谱仪器时产生的杂散光，采用标量衍射理论数值分析了杂散光产生的原因。数值模拟结果表明，紫外平面刻划光栅刻槽周期随机误差以及刻槽深度随机误差是杂散光的主要来源，而光栅杂散光对光栅表面小尺度随机粗糙度并不敏感。提出了平面光栅光谱仪出射狭缝相对宽度的概念，数值分析了仪器出射狭缝高度及出射狭缝相对宽度与杂散光强度的关系，从而分别为在光栅制作工艺中从根源上降低光栅杂散光以及在光栅应用过程中从使用方法上降低