【摘 要】
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采用微弧氧化设备,在电压410 V、Na2SiO3浓度80 g/L、电流10 A、氧化时间12 min条件下,在纯Al表面获得了厚度为22μm的陶瓷膜层。采用X射线衍射及扫描电镜并结合能谱仪研究了
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采用微弧氧化设备,在电压410 V、Na2SiO3浓度80 g/L、电流10 A、氧化时间12 min条件下,在纯Al表面获得了厚度为22μm的陶瓷膜层。采用X射线衍射及扫描电镜并结合能谱仪研究了膜层的相组成、形貌及化学成分;分析了膜层相组成的形成机制。研究表明：膜层表面凸凹不平,它由膜层基体和大量的孔洞组成,主要包含O、Si、Al元素。组成相包含非晶相和晶相,非晶相包含SiO2和Al2O3,晶相为Al相。膜层的粗糙度为2.0μm,显微硬度为2 200HV,绝缘电阻值为5 MΩ。
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