【摘 要】
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随着微电子学应用的进一步扩大,半导体集成电路的发展趋势必然是VLSI化。一般说来,提高半导体集成电路的集成度,应开展象图1那样的图形微细化。但是,要实现图形微细化必需克
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随着微电子学应用的进一步扩大,半导体集成电路的发展趋势必然是VLSI化。一般说来,提高半导体集成电路的集成度,应开展象图1那样的图形微细化。但是,要实现图形微细化必需克服种种困难。其中最重要的是,正确地形成微细图形和提高检测成品率。
With the further expansion of the application of microelectronics, the trend of semiconductor integrated circuits must be VLSI. In general, to improve the integration of semiconductor integrated circuits, graphics should be carried out as shown in Figure 1 to refine. However, to achieve the miniaturization of graphics must overcome the difficulties. The most important of these is the correct formation of fine patterns and improved inspection yields.
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