【摘 要】
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目的:研究甲巯咪唑在酞菁钴（CoPc）修饰碳糊电极上的电化学行为并测定其含量。方法:循环伏安（CV）法和示差脉冲伏安（DPV）法。结果:在 pH=7.0、修饰电极中 CoPc 含量为6.25%（w/w）、富集
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目的:研究甲巯咪唑在酞菁钴（CoPc）修饰碳糊电极上的电化学行为并测定其含量。方法:循环伏安（CV）法和示差脉冲伏安（DPV）法。结果:在 pH=7.0、修饰电极中 CoPc 含量为6.25%（w/w）、富集电位-0.3 V（vs SCE）、富集时间40 s 的条件下,甲巯咪唑的氧化峰电流（ip）与其浓度在2.0×10-6～7.0×10-4mol·L-1范围内呈良好的线性关系,检出限为0.3 μmol·L-1。结论:该方法应用到实际样品含量测定,其结果令人满意。
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