【摘 要】
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本文基于脉冲激光沉积（PLD）方法,利用光谱物理GCR-170型脉冲激光器Nd∶YAG的三次谐波,实验上完成了在Al2O3（0001）基片上生长了ZnO薄膜。利用原子力显微镜（AFM）、光致发光（PL）谱和光学
【机 构】
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北京工业大学应用数理学院; 澳大利亚国立大学激光物理中心;
【基金项目】
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北京市自然科学基金(4062008)资助课题
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本文基于脉冲激光沉积（PLD）方法,利用光谱物理GCR-170型脉冲激光器Nd∶YAG的三次谐波,实验上完成了在Al2O3（0001）基片上生长了ZnO薄膜。利用原子力显微镜（AFM）、光致发光（PL）谱和光学透射谱对不同基片温度下沉积的ZnO薄膜的表面形貌和光学特性进行研究。结果表明,沉积时的基片温度对ZnO薄膜的结构和特性有显著影响。在基片温度为500℃时沉积的ZnO薄膜结构致密均匀,并表现出很强的紫外发射。通过紫外-可见透射光谱的测量,讨论了沉积时的基片温度对ZnO薄膜光学透射率的影响。
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