TiAlN涂层的退除对高速钢基体界面性能的影响

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本论文采用化学方法退除高速钢(HSS)基体上的硬质涂层。采用金相显微镜和光电子能谱(XPS)分析了HSS基体涂覆涂层前和退除涂层后表面形貌和成分变化。发现镀有Ti Al N涂层的HSS在35℃,1.52 mol葡萄酸钠(GA)、30 mol 30%H_2O_2、0.45 mol三聚磷酸钠(STPP)、13 mol Na OH组成的碱性退镀液中反应80 min后,Ti Al N系涂层能被退除掉,且HSS基体表面光亮。通过对退镀后基体表面XPS定性分析发现,基体表面Ti、Al元素含量为零,涂层退除干净,溶液对
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