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主要采用电子束蒸发与电阻蒸发复合镀膜系统制备 Zr-Cu 二元非晶薄膜，衬底基板无冷却装置。通过X 射线衍射仪（XRD）、场发射透射电子显微镜（FE-TEM）、场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）、微控四探针测量仪等仪器，系统地研究了样品沉积时间对薄膜厚度、微观结构、表面形貌以及电学性能的影响，另外还分析了与磁控溅射制备的 Zr-Cu 非晶样品的区别。结果显示，该复合镀膜技术制备的 Zrx Cu100-x 非晶薄膜玻璃形成成分范围为 x =30~85；薄膜的结构与性能对沉积时间比较敏感。样品随沉积时间的延