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采用非平衡磁控溅射沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了无氢Ti掺杂类金刚石（Ti—DLC）薄膜和无氢高纯类金刚石（DLC）薄膜，通过调节Ti靶的溅射功率使获得的Ti—DLC薄膜Ti含量（原子分数）为1．9％-34％．利用RaInan分光光谱仪、XPS，XRD、显微硬度计及纳米划痕仪分析研究了Ti—DLC的组织结构、显微硬度及薄膜附着力．结果表明，利用非平衡磁控溅射得到的Ti—DLC薄膜，在Ti含量小于25％时，Ti—DLC薄膜仍具有类金刚石薄膜的sp2，sp3结构，但Ti的掺杂促进了sp^3键向s