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热敏薄膜电阻制备是非致冷微测辐射热计红外焦平面的一项关键技术。对目前在非致冷微测辐射热计研制中得到成功应用的氧化钒薄膜的特性、制备及表征技术进行综述。氧化钒存在多种物相和结构 (VOx:0 <x≤ 2 .5) ,它们具有不同的半导体、金属导电特性 ,某些相在一定温度下会发生半导体 -金属相变 ,材料的电阻率和光学透射率在这些相变温度附近会发生极大的变化。有的氧化钒 (x≈ 2 )在室温附近具有较高的电阻温度系数 ,可达 ( - 2～ - 4) %K-1。目前制备氧化钒薄膜有蒸发、溅射、脉冲激光沉积、溶胶 -凝胶、氧化还原等方法 ,其中溅射法具有大面积均匀、工艺温度低、与衬底附着力强、与集成电路工艺兼容性好等诸多优点 ,在非致冷微测辐射热计红外焦平面的研制中有很好的应用前景。