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描述了用于进行超高真空化学气相沉积（ＵＨＶＣＶＤ）研究的一个实验装置，并讨论氧化钛，砷化镓，铑和铁薄膜硅在单晶表面上的ＵＨＶＣＶＤ及其原位表征，还简单地探讨了ＵＨＶＣＶＤ在制备模型催化剂中的应用。
固体薄膜的超高真空化学气相沉积
【摘 要】
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描述了用于进行超高真空化学气相沉积（ＵＨＶＣＶＤ）研究的一个实验装置，并讨论氧化钛，砷化镓，铑和铁薄膜硅在单晶表面上的ＵＨＶＣＶＤ及其原位表征，还简单地探讨了ＵＨＶＣＶＤ在制备模型催化剂中的应用。
【机 构】
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SemiconductorrocessandDeviceCenter,TexasInstruments,13536NorthCentralExpresswayMS944,Dallas,TX75243,
【出 处】
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物理化学学报
【发表日期】
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1995年12期
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