离化团束淀积和外延简介

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本文简要介绍了一种新的薄膜淀积和外延技术——离化团束淀积和外延。文中,概述了离化团束的工作原理、特点及设备情况,介绍了用该技术生成的薄膜的性质及其在微电子学、光学、信息存储等主要范围的应用前景。 This article briefly describes a new thin film deposition and epitaxial technique - ionizing cluster deposition and epitaxy. In this paper, the working principle, characteristics and equipment of ionization cluster are summarized. The properties of the membrane generated by this technique and its application prospects in the main areas of microelectronics, optics and information storage are introduced.
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