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日本旭硝子公司(Asahi Glass)已生产出氟化氩(ArF)激光分档器浸渍光刻法用的合成石英光掩膜基板。这一技术突破归功于该公司为将合成石英的双折射率降低至1nm以下而开发的技术。
氟化氩浸渍光刻法用石英光掩膜基板
【摘 要】
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日本旭硝子公司(Asahi Glass)已生产出氟化氩(ArF)激光分档器浸渍光刻法用的合成石英光掩膜基板。这一技术突破归功于该公司为将合成石英的双折射率降低至1nm以下而开发的技
【出 处】
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现代化工
【发表日期】
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2004年10期
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