【摘 要】
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一、我国直径300mm硅单晶抛光片生产实现零突破进入二十一世纪以来,国际集成电路制造技术进入了新一轮的快速发展时期,0．13μm～0．10μm直径300mm集成电路技术开始进入市场,对直
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一、我国直径300mm硅单晶抛光片生产实现零突破进入二十一世纪以来,国际集成电路制造技术进入了新一轮的快速发展时期,0．13μm～0．10μm直径300mm集成电路技术开始进入市场,对直径300mm硅片的需求也由技术研发转变为现实的市场需求。为适应国际半导体产业的发展,有研硅股在国家科技部和北京市政府的共同支持
I. China’s 300mm diameter silicon single crystal polishing chip production to achieve zero breakthrough Since entering the 21st century, the international integrated circuit manufacturing technology has entered a new round of rapid development period, 0.13μm ~ 0.10μm 300mm diameter 300mm integrated circuit technology began to enter Market, the demand for 300mm diameter silicon from technology research and development into a real market demand. In order to meet the development of the international semiconductor industry, there is a common support from the Silicon Research Unit in the Ministry of Science and Technology and the Beijing Municipal Government
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