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工作气压对磁控溅射Mo膜的影响

来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：winterdxm7124

【作 者】

：

廖国 王冰 张玲 牛忠彩 张志娇 何智兵 杨晓峰 李俊 许华 陈 

【出 处】

：

表面技术

【发表日期】

：

2020年1期

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