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PLZT陶瓷靶材及溅射薄膜的微观结构研究
PLZT陶瓷靶材及溅射薄膜的微观结构研究
来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:vivion1
【摘 要】
:
研究了铁电PLZT(7.5/65/35)陶瓷靶材及用射频磁控溅射法制备的相同组分陶瓷薄膜的矿物结构及显微结构。实验结果表明,与陶瓷靶材相比,陶瓷薄膜的结晶取向发生了较大的变化,晶粒度减小,致密度提高
【作 者】
:
卢德新
黄龙波
【机 构】
:
武汉华中理工大学固体电子学系
【出 处】
:
无机材料学报
【发表日期】
:
1994年2期
【关键词】
:
陶瓷
薄膜
铁电陶瓷
靶材
PLZT ceramic target and thin films
microstructure
【基金项目】
:
863高科技资助
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研究了铁电PLZT(7.5/65/35)陶瓷靶材及用射频磁控溅射法制备的相同组分陶瓷薄膜的矿物结构及显微结构。实验结果表明,与陶瓷靶材相比,陶瓷薄膜的结晶取向发生了较大的变化,晶粒度减小,致密度提高,但晶粒无完整的晶形。随退火温度的提高,薄膜的缺陷明显增加。
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