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介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势.
157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展
【摘 要】
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介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国
【机 构】
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中科院长春光学精密机械与物理研究所,大连海事大学数理系,中科院长春应用化学研究所
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2003年6期
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