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目的 分析羟基磷灰石（HA）义眼台植入术后远期暴露的原因及处理方法.方法 检查5例HA义眼台远期暴露病例的义眼片,取出义眼台,3个月后再次植入新的HA义眼台.结果 4例义眼片过大,3例义眼片结膜面粗糙;再次植入义眼台后随访36个月,结膜对合好,未见义眼台暴露.结论 过大的义眼片及其粗糙的表面可能是导致HA义眼台远期暴露的主要原因,重新植入HA义眼台,可以取得良好疗效.