Effect of Pd ions in the chemical etching solution

来源 :北京科技大学学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ydlwxx

【摘要】

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The acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) surface was etched by dipping it into chromic acid-sulfuric acid containing a trace amount of palladium. The surface r

【作者】

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Guixiang Wang Ning Li Deyu Li

【机构】

：

AppliedChemistryDepartment,CollegeofMaterialScienceandChemicalEngineering

【出处】

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北京科技大学学报：英文版

【发表日期】

：

2007年3期

【关键词】

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钯离子 X射线光电子光谱学原子力显微术化学蚀刻丙烯腈丁二烯苯乙烯塑料 ABS plastic etching palladium XPS AFM

【基金项目】

：

This work was financially supported by the National Doctorial Research Foundation of China （No.20030213007）.

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The acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) surface was etched by dipping it into chromic acid-sulfuric acid containing a trace amount of palladium. The surface roughness, activity, and valence bond were characterized by atomic force microscopy (AFM) and X-

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