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工作气压对电子束沉积ZrO2薄膜折射率和聚集密度的影响
工作气压对电子束沉积ZrO2薄膜折射率和聚集密度的影响
来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jchenghai
【摘 要】
:
采用电子束蒸发的方法,用石英晶体振荡法监控薄膜的蒸发速率,在不同工作气压下制备了ZrO2薄膜样品.在相调制型椭圆偏振光谱仪和分光光度计上对样品的光谱特性进行了测试,根据波长
【作 者】
:
郝殿中
吴福全
马丽丽
闫斌
张旭
【机 构】
:
曲阜师范大学激光研究所
【出 处】
:
光子学报
【发表日期】
:
2006年2期
【关键词】
:
薄膜
ZRO2薄膜
折射率
聚集密度
电子束蒸发
Thin film
ZrO2 coatings
Refractive index
Packing
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采用电子束蒸发的方法,用石英晶体振荡法监控薄膜的蒸发速率,在不同工作气压下制备了ZrO2薄膜样品.在相调制型椭圆偏振光谱仪和分光光度计上对样品的光谱特性进行了测试,根据波长漂移的理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明,随着工作气压的降低,薄膜的聚集密度和折射率都随之增大.
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