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Si表面制备GaAs单晶薄膜的反相畴消除
Si表面制备GaAs单晶薄膜的反相畴消除
来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:michael_lv
【摘 要】
:
极性半导体GaAs在非极性半导体Si表面外延生长,普遍选用(100)面Si材料作衬底,外延时由于Ga,As原子占据不合适的晶格位置,通常导致结构缺陷--反相畴产生,而选用(100)面偏向[01
【作 者】
:
刘翔
吴长树
张鹏翔
赵德锐
陈庭金
廖仕坤
杨家明
【机 构】
:
昆明理工大学,云南师范大学,昆明物理研究所,昆明冶金研究院
【出 处】
:
半导体光电
【发表日期】
:
2002年1期
【关键词】
:
极性半导体
非极性半导体
反相畴
polar semiconductornonpolar semiconductorantiphase domains
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极性半导体GaAs在非极性半导体Si表面外延生长,普遍选用(100)面Si材料作衬底,外延时由于Ga,As原子占据不合适的晶格位置,通常导致结构缺陷--反相畴产生,而选用(100)面偏向[011]方向4°或(211)面的Si作衬底,可以有效消除反相畴.
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