【摘 要】
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运用化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD）技术制备了W体积分数分别10%,13%和18%的Ta/W两层层状复合材料,采用金相显微镜（OM）、扫描电镜（SEM）和室温拉伸实验对复合材料的性
【机 构】
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昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室
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运用化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD）技术制备了W体积分数分别10%,13%和18%的Ta/W两层层状复合材料,采用金相显微镜（OM）、扫描电镜（SEM）和室温拉伸实验对复合材料的性能进行分析。结果表明：运用CVD技术可以制备W体积分数不同,且密度优于理论密度99.4%的层状复合材料;复合材料中Ta,W层的晶粒均为柱状晶粒,离界面越近,晶粒越细;沉积态复合材料的力学性能优于纯CVD Ta和CVD W;1600℃×2 h的热处理后,复合材料的界面扩散层宽度显
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