【摘 要】
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本文以原位反应喷射沉积成形制备的Ti B2/Si-Al电子封装材料为研究对象,结合Ti B2颗粒添加前后显微组织变化,分析了Si-Al材料中Si颗粒细化及二次加热保温时抑制初生Si相颗粒
【机 构】
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烟台大学环境与材料工程学院,北京科技大学钢铁共性技术协同创新中心
【基金项目】
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高等学校科技创新工程重大项目培育基金资助项目（707007）, 北京市自然科学基金资助项目（2093040）
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本文以原位反应喷射沉积成形制备的Ti B2/Si-Al电子封装材料为研究对象,结合Ti B2颗粒添加前后显微组织变化,分析了Si-Al材料中Si颗粒细化及二次加热保温时抑制初生Si相颗粒的长大机理。通过P.G.Klemens和Hasselman-Johnson模型计算,结合部分实验结果,分析了Ti B2颗粒和Si含量变化以及沉积坯孔隙率对复合材料热导率的影响。结果表明,Ti B2/Si-Al材料的在Si含量50%～75%、Ti B2颗粒含量在1%～9%,孔隙率在0～5%的变化范围内随着数值的导热率增大而减
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