980nm应变量子阱激光器外延层工艺参数的优化设计

来源 :重庆邮电大学学报(自然科学版) | 被引量 : 8次 | 上传用户：fangaocang

【摘要】

：

对980 nm应变量子阱激光器的外延层工艺参数进行优化设计。通过理论计算和软件模拟相结合的方法,优化了量子阱的结构,研究了波导层、包层中的Al组分对量子阱激光器效率的影响。根据优化结果,采用金属有机化合物化学气相淀积(metal organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术外延生长了激光器的材料,并进行测试。测试结果表明,在室温下,当工作电流为1 A时,阈值

【作者】

：

张莹宋爱民王培界

【机构】

：

重庆邮电大学光电工程学院,重庆教育学院图书馆,重庆光电技术研究所

【出处】

：

重庆邮电大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2012年02期

【关键词】

：

单量子阱压应变 AL组分金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD) 转换效率 single quantum well（SQW） compressive str

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