晶体倒空间中的迹线分析

来源 :自然科学进展:国家重点实验室通讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuxuan1991
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提出适用于各种晶系晶体倒空间中迹线的分析原理,并由此导出的计算公式,从电子衍射花样上的漫散衍射条纹或(和)伴点,可简便确定晶体中所存在的面缺陷。应用此迹线分析原理,分析讨论了奥氏体{111}面上可能形成VC膜,标注和确定了Laves相中的层错面和(Fe,Cr)7C3中的缺陷面。
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