【摘 要】
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采用真空磁控溅射共溅法制备了CuxNb100-x(x=15,25,35,50,65,75,85,％,原子分数)7种成分的合金薄膜,采用氦(He)离子注入手段对合金薄膜进行室温辐照改性,利用X射线衍射仪(XRD)
【机 构】
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中国石油大学(北京)新能源与材料学院,北京102249
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采用真空磁控溅射共溅法制备了CuxNb100-x(x=15,25,35,50,65,75,85,％,原子分数)7种成分的合金薄膜,采用氦(He)离子注入手段对合金薄膜进行室温辐照改性,利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和纳米压痕仪研究了辐照前后合金薄膜的微观形貌、相组成与力学特性.结果 显示:当Cu含量≤25％或≥75％时,合金薄膜由单一晶体相构成,晶粒形貌为等轴晶,尺寸约为100nm,前者品界处有Cu富集,后者晶界处有Nb富集;经He离子辐照后,He泡均匀分布于晶粒内,未见明显偏聚;辐照后样品的纳米压痕硬度显著高于未辐照样品,呈现辐照硬化.当Cu含量为35％～65％时,合金薄膜由晶体与非品双相构成,其中晶体相为颗粒状,尺寸为10～20 nm,均匀分布于非晶基体中;经He离子辐照后,He泡主要分布于晶体/非晶界面处,晶体或非晶相内部的He泡难以分辨;辐照后样品的纳米压痕硬度低于未辐照样品,呈现辐照软化.
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