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介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术，在分析了现有磁光保护层材料的不足的基础上，预测了磁光盘保护材料研究发展的未来趋势。
磁光盘抗腐蚀研究进展
【摘 要】
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介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术，在分析了现有磁光保护层材料的不足的基础上，预测了磁光盘
【机 构】
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华中理工大学固体电子学系,430074
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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1998年6期
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