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ICP—AES测定电镀高纯铜中微量磷
ICP—AES测定电镀高纯铜中微量磷
来源 :光谱实验室 | 被引量 : 0次 | 上传用户:beehxf
【摘 要】
:
用浓HNO3溶解高纯铜试样,电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)测定其中微量磷,并对试样处理、测试方法、提高灵敏度等条件进行了优化实验.结果表明,方法回收率为99.07%-102.0%
【作 者】
:
杨德君
陆雅琴
贾素娟
【机 构】
:
辽宁师范大学实验中心,辽宁省北票市重点高中
【出 处】
:
光谱实验室
【发表日期】
:
2003年3期
【关键词】
:
ICP-AES
测定
电镀
高纯铜
微量分析
磷
电感耦合等离子体-发射光谱
ICP-AES
Phosphorus
Electroplate Copper.
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用浓HNO3溶解高纯铜试样,电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)测定其中微量磷,并对试样处理、测试方法、提高灵敏度等条件进行了优化实验.结果表明,方法回收率为99.07%-102.0%,RSD(n=6)为0.22%-0.25%.
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